国产光刻机迎来历史级的技术突破，核心受益股一览！

✅十年磨一剑，国产光刻机正在迎来突破时刻

据英国媒体《金融时报》报道，中芯国际正测试一台采用浸没式技术的28纳米中国国产深紫外光刻机（DUV），并将利用“多重曝光技术”生产7纳米晶片，也可能以较低的良率生产5纳米晶片。

从2018年中美贸易战开始，我们就认识到，核心技术必须掌握在自己手里。主席也曾经在国常会的会议中讲到：以“十年磨一剑”的坚定决心，加快推进高水平科技自立自强。

首先讲一讲光刻机这个仪器到底有多复杂和多重要

先说价格：阿斯麦尔最新的光刻机产品—极紫外（EUV）光刻机。由于High-NA技术实现重大突破，单台售价直接飙到近30亿人民币（差不多4亿美元）！一台设备30亿人民币啊！什么概念？美国最贵的战机也不过3亿美元。

技术难度：EUV光刻机集合了光学、机械、电子、软件等40多个学科的顶尖技术，光是研发就烧了20年，投入超70亿欧元。零部件超10万之多，全球供应商达5000多家。既要求准确性，又要求稳定度，还得有协同性。

可以举一个相似的例子，让你用一支笔在一根头发丝上，写下整篇的“水浒传”（有几十万字）。你想想都会觉得不可能，而光刻机干的就是这种事，它要在一个小小的芯片上刻下“一座城市”，里面还有四通八达的“交通公路”，让电信号在里面传输。

产业格局：全球仅仅ASML一家成功量产高精度光刻机，低端些的设备日本也能生产。在全球半导体设备中，该公司营收排名保持第一位。

✅这次5nm光刻机的历史性突破意义重大

目前，我们只能从无到有，慢慢追赶，不仅仅制造光刻机的公司需要投入大量精力和金钱研发，而且相关的产业链也要形成相应的配套，才能成功。这次5nm光刻机的历史性突破意义重大，说明相关产业链已经具备一定的成熟度。

在国内现在有整机研发实力的代表就是上海微电子，微电子2025年宣布的28纳米浸没式光刻机，理论性能对标ASML十几年前的产品，经过多重曝光基本能达到7nm的水平，但产品良率也会大幅下降，而且还未形成稳定量产。而这次外媒报道的上海宇量昇DUV光刻机，可以经过多重曝光达到5nm的水平。

上海宇量昇的股东是上海和深圳两大国资，各持有50%的股权。上海光刻机技术代表是微电子，而深圳技术代表是近几年的半导体黑马—新凯来，而新凯来的背后则是华为的技术。新凯来起源于华为2012实验室的星光工程部，在美国的制裁下，现已独立为深圳国资委全资控股的国有企业。

这是要集合上海和深圳两地的顶级技术和资源来一起攻克光刻机。相信随着时间的推进，我们的技术终将可以追赶到世界先进水平。

为此，我们梳理了相关的产业，选出相关核心公司，以供大家研究参考。

✅风险提示

热门股容易受市场环境、板块热度、资金流向、股民情绪等影响产生较大波动，注意要对仓位合理把控，还有一旦走势不符合预期，该离场就要离场。

免责声明：本文由投资顾问张国锋 （执业编号：A0710623060001）进行编辑整理。本文仅为市场信息梳理，不构成任何投资建议。市场有风险，投资须谨慎。【五星智投提醒大家】⚠“注册制时代 ：先排雷，再选股！”‌‌‌‌‌‌*ST广道财务造假！农尚环境涉嫌信披违规！双双被查！股民索赔通道紧急开启：①若您不幸“踩雷”亏损，可长按并扫描下方二维码添加啄木鸟客服详询维权路径👇；②若您想查看更多维权标的，点击下方图片可一键维权🤳